半导体单晶硅晶炉真空吸尘系统多级高效过滤组件应用

        如今随着经济快速发展，科技发展的马不停蹄，半导体行业的产品在无论是工业还是商业都已经占据着重要的位置，甚至我们的生活中，涉及到半导体材料的产品也是到处可见，因此半导体已经属于不可缺少的行业之一了，但是我们知道半导体的分类有很多，有很多的种类在生产的过程中，易产生粉尘，比如晶炉车间在作业的时候，不仅晶炉内壁由粉尘附着，地面上也会在单晶硅转运出来的时候，粉尘散落在地面上，不及时清理，会降低设备的使用寿命以及产品的质量，因此半导体单晶硅晶炉粉尘处理可安装真空吸尘系统。

        在选择一套合适的真空吸尘系统的时，我们第一步要勘察半导体单晶硅生产车间，结合车间的布局以及车间晶炉的摆放位置每一个晶炉之间的距离和粉尘散落的面积大小；第二步，了解车间的面积，粉尘点有几个，每小时产生的粉尘量有多少；第三步，我们的技术人员还要根据单晶硅车间产生的粉尘的粒径大小和粉尘的特性来决定真空吸尘系统主机风量和每个吸尘点负压的大小；第四步，就是按照客户的需求把主机安装的位置确定下来，然后进行设计管道部分，为客户设计出合理的除尘方案，并且节约投资。

         根据了解，半导体单晶炉进行单晶硅结晶作业时，会产生硅粉，而且硅粉的粒径很小很轻，并且该粉尘易产生静电属于易燃易爆类的粉尘，选择人工手动传统方式清扫是不能满足车间洁净度的需求，因此我们的技术人员对于单晶硅晶炉用到的真空吸尘系统的过滤阶段，设计了多级高效过滤组件，进一步高效率的解决单晶硅晶炉炉内硅粉和作业区域散落的粉尘，具体设计优势如下：

         我们的在SINOVAC真空吸尘系统的过滤组件采用分级递进过滤设计，进行层层拦截粉尘，筑牢除尘防线。初级过滤负责拦截大颗粒硅屑、石英碎渣，保护后端核心滤芯；中效高效过滤精准截留微米级硅粉，大幅提升过滤效率；终端采用防静电PTFE覆膜高精度滤料，针对0.3μm超细粉尘过滤效率可达99.99%以上，定制款可实现0.12μm超细硅粉高效截留，滤料无纤维脱落、无杂质析出，排放浓度符合国家环保及单晶硅行业洁净标准。配套脉冲反吹自动清灰功能，运行中自动清理滤芯积尘，无需人工频繁拆洗，保障过滤效率持久稳定，降低运维工作量与成本。

        一套完整的真空吸尘系统的效果怎么样，不是单一方面的组件就能够决定的，我们要看整体，如果只有过滤系统高质量，其他系统跟不上也是不行的，我们一定要多方面结合去选择。